99Generador de oxígeno PSA de alta pureza para la fabricación de semiconductores

Generador de oxígeno PSA(Generador de oxígeno de adsorción por oscilación a presiónLa tecnología de adsorción por oscilación de presión (PSA) de alta precisión, que se basa en el uso de la tecnología de adsorción por oscilación de presión (PSA) para la fabricación de semiconductores, es un equipo limpio clave en la industria de la fabricación de semiconductores.se logra una purificación profunda mediante tamizos moleculares de doble capa (tamizos moleculares ordinarios + tamizos moleculares de alta pureza) para producir oxígeno de alta pureza con una concentración superior a 99.5 por ciento.

Cuenta con ventajas fundamentales tales como pureza estable, alta limpieza, funcionamiento confiable y cero emisiones de contaminantes,que puede cumplir con los estrictos requisitos de pureza y limpieza del oxígeno en procesos como la oxidación y la deposición de películas finas durante la fabricación de semiconductores. Como la configuración de nivel superior paraPsa pureza de la planta de oxígeno, las impurezas (nitrógeno, humedad, dióxido de carbono, etc.) en el oxígeno producido por este equipo están todas controladas por debajo del nivel de ppm,evitar una disminución del rendimiento de las virutas causada por una pureza de oxígeno insuficienteEs un equipo esencial de suministro de oxígeno para la fabricación de semiconductores.

La fabricación de semiconductores representa el pináculo de la fabricación de precisión, con procesos de chips que han entrado en la escala nanométrica (5nm, 3nm).degradación del rendimientoEl oxígeno se utiliza principalmente en procesos básicos como la oxidación (formando capas de aislamiento de SiO2) y la deposición química de vapor (CVD) en la fabricación de semiconductores.La pureza del oxígeno afecta directamente a la uniformidad del espesor de la capa de aislamiento, adhesión de película y rendimiento eléctrico del chip.

El oxígeno de grado industrial ordinario (93% de pureza) contiene impurezas como nitrógeno y humedad que pueden formar defectos en la superficie del chip, lo que conduce a una disminución del 10-20% en el rendimiento; en contraste, 99.El 5% de oxígeno de alta pureza puede controlar el contenido de impurezas por debajo del nivel de ppmLa tecnología de adsorción por tamiz molecular de doble capa de la tecnología de adsorción por tamiz molecular de la tecnología de tamiz de doble capa de la tecnología de adsorción por tamiz de doble capa de la tecnología de adsorción por tamiz molecular de la tecnología de tamiz de doble capa de la tecnología de adsorción por tamiz molecular de la tecnología de tamiz de doble capa de la tecnología de tamiz molecular de la tecnología de tamiz de doble capa de la tecnología de tamiz molecular de la tecnología de tamiz de doble capa de la tecnología de tamiz molecular de la tecnología de tamiz molecular de la tecnología de tamiz de doble capa de la tecnología de tamiz molecular de la tecnología de tamiz de doble capa de la tecnología de tamiz deGenerador de oxígeno PSAEl uso de este material puede eliminar profundamente las impurezas como el nitrógeno, la humedad y el dióxido de carbono del aire.Psa pureza de la planta de oxígenoLa precisión de control supera con creces la de los equipos tradicionales de generación de oxígeno, cumpliendo plenamente los requisitos del proceso de fabricación de semiconductores.

Además, la fabricación de semiconductores tiene requisitos extremadamente altos para la limpieza del oxígeno. El gas de salida debe cumplir con la clasificación de sala limpia Clase 100 (no más de 100 partículas ≥ 0.5 μm por pie cúbico de aire)El.Generador de oxígeno PSAestá equipado con un sistema de filtración de gas de alta eficiencia que puede filtrar partículas pequeñas en oxígeno, evitando la contaminación de partículas en la superficie del chip y garantizando aún más la calidad del chip.

Cuando se compraGenerador de oxígeno PSA, las empresas de semiconductores deben respetar cuatro principios fundamentales: "pureza cualificada, compatibilidad en salas limpias, estabilidad y fiabilidad, y cualificaciones completas de los proveedores".

• En términos de pureza, es imperativo seleccionar equipos con una pureza de oxígeno ≥ 99,5% y un contenido de impurezas que cumplan los requisitos del proceso de semiconductores.y exigir a los proveedores que proporcionen informes de ensayos de terceros (como SGS, ITS)
• En lo que respecta a la compatibilidad con el cuarto limpio, es necesario confirmar que la limpieza del gas de salida del equipo es ≥Clase 100 y que la carcasa del equipo cumple los requisitos de instalación en el cuarto limpio.
• En términos de estabilidad y fiabilidad, se debe dar prioridad a los productos con un tiempo de funcionamiento continuo ≥ 8.000 horas/año y una garantía de ≥ 3 años para los componentes principales.
• Las cualificaciones de los proveedores son cruciales.planta de oxígeno basada en PSAlas cualificaciones de producción, la certificación del sistema de gestión de la calidad ISO9001 y las certificaciones pertinentes de la industria de semiconductores (como la certificación SEMI),y exigirles que proporcionen casos exitosos en la industria de semiconductores

El servicio posventa debe satisfacer los elevados requisitos de la industria de semiconductores.y suministro rápido de piezas de repuesto para garantizar el funcionamiento estable a largo plazo del equipo.

Con su ventaja de alta pureza del 99,5%, elGenerador de oxígeno PSASe ha convertido en un punto de referencia para el suministro de oxígeno limpio en la fabricación de semiconductores.y el rendimiento de funcionamiento estable puede proporcionar un soporte fiable de suministro de oxígeno para los procesos de semiconductores, lo que lo convierte en un equipo clave para las empresas de fabricación de chips para mejorar el rendimiento y reducir los costes.